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光學(xué)平臺和光學(xué)機械
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單擺桿氣浮隔振平臺內(nèi)部采用柔性雙腔與超小孔層流阻尼設(shè)計,內(nèi)部中心單擺桿結(jié)構(gòu),當(dāng)外部發(fā)生振動時內(nèi)部擺桿擺動可有效的打消外部振動,采用進口閥體,頂部調(diào)節(jié)裝置可完成 ±15mm 調(diào)節(jié)范圍,全系標配膜片保護器推薦對于振動要求非常高的儀器使用,可選配腳輪。
光學(xué)暗箱用于搭建簡易密閉空間作業(yè),對光和聲振動敏感的儀器提供了保護空間,同時起到防塵作用。產(chǎn)品分為兩種: 透明罩箱和遮光罩箱。透明罩箱側(cè)板為透明PMMA 材料,遮光罩箱側(cè)板為不透明的經(jīng)過陽極氧化黑處理的合金板,罩箱可選擇上開蓋、推拉門、等樣式 . 罩箱內(nèi)部配有連接角件,能夠方便的把罩箱固定在光學(xué)平臺上。罩箱兩側(cè)配有防塵護線圈,可以方便布線。
三線擺氣浮隔振平臺為我司結(jié)合多年在隔振領(lǐng)域的研發(fā)及應(yīng)用經(jīng)驗,開發(fā)的一款高性能氣浮隔離器,支腿為獨立式圓腿支撐,無整體共振,內(nèi)部三線擺設(shè)計可將振動隔離到更低的水平,并在受到干擾后實現(xiàn)高精度工作臺重新定位。
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